HMDS預處理機H-2 智能HMDS真空烘箱為半導體應用的光刻膠粘合促進劑工藝設備，
HMDS預處理機H-2 智能HMDS真空烘箱
HMDS（六甲基二硅氮烷）為半導體應用的光刻膠粘合促進劑。
HMDS烘箱將六甲基二硅胺烷HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導體材料表面后經系統加溫，它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
HMDS預處理機H-2 智能HMDS真空烘箱技術性能
處理產品：2-12寸晶圓及方片均可兼容（可定制）
材質：內箱采用 316L 級不銹鋼
溫度范圍：80-200℃
真空度：≤1torr
工藝數量：5個工藝設定并保存
操作界面：智能型彩色人機界面，一鍵完成工藝
真空泵：無油渦旋真空泵（或旋片油泵）
HMDS預處理機烘箱其他功能
HMDS低液位報警提示功能
工藝數據記錄功能
脫水烘烤
溫度保護程序鎖定保護
圖形反轉功能
HMDS藥液泄漏報警提示功能
