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HMDS鍍膜機通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS鍍膜機
通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS鍍膜機
1)設(shè)備外殼采用醫(yī)用級不銹鋼304不銹鋼材質(zhì)制作，內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成；采用C型不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置；采用鋼化、防雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況。2)箱門閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)保持高真空度。3)采用微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動控溫,定時,超溫報警等,采用LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩(wěn)定.4)智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。5)HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計，使真空箱密封性能*，確保HMDS氣體無外漏顧慮。6)整個系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)醫(yī)用級316L不銹鋼材料制作，無發(fā)塵材料，適用百級光刻間凈化環(huán)境。技術(shù)參數(shù)
| 1、設(shè)備名稱 |
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| 2、設(shè)備型號 | JS-HMDS90 |
| 3、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) | |
| 3.1 工作室尺寸 | 450×450×450（mm） 可選其他數(shù)據(jù) |
| 3.2 材質(zhì) | 外箱采用304不銹鋼，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼 |
| 3.3 溫度范圍 | RT+10-250℃ |
| 3.4 溫度分辨率 | 0.1℃ |
| 3.5 溫度控制精度 | ±0.3% |
| 3.6 真空度 | ≤133pa（1torr） |
| 3.7 潔凈度 | class 100，設(shè)備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境 |
| 3.8電源及總功率 | AC 220V±10% / 50HZ 總功率約2.0KW |
| 3.9 控制儀表 | 人機界面 |
| 3.10擱板層數(shù) | 2層 |
| 3.11 HMDS流量控制 | 可控制HMDS流量 |
| 3.11真空泵 | 油泵或干泵 |
| 3.12 保護裝置 | 漏電保護，過熱保護 |
